EDI膜塊進水水質(zhì)要求：

1、給水：RO產(chǎn)水，電導率＜10μs/cm（建議＜5μs/cm）；

2、PH值：6.5-9.0；

3、水溫度：5-35°C；

4、硬度（以CaCO3計）：＜0.5ppm

5、有機物：最大為0.5ppm，TOC建議為零；

6、氧化劑：最大為0.05ppm；

7、鐵、錳：＜0.01ppm；

8、二氧化硅：＜0.5ppm；

9、二氧化碳：＜5ppm；

10、油和油脂：檢不出。

三、工藝流程：

       原水箱→原水加壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→軟水器（水質(zhì)硬度高的地區(qū)依然適用）→保安過濾器→第一級反滲透 →純水箱→（純水增壓泵→第二級反滲透→無菌純化水箱→臭氧殺菌器→）純水增壓泵→EDI膜堆→EDI純化水箱→用水點。

四、設(shè)備特點：

     1、原水電磁閥自動操控進水。

     2、預處理可自動沖刷，RO膜反沖洗功能。

     3、高壓泵設(shè)凹凸壓保護，水箱液位操控與水泵實行聯(lián)動。

     4、實時在線監(jiān)測水質(zhì)，無需職守。

五、參數(shù)說明：

   產(chǎn)品名稱：EDI去離子水設(shè)備

   產(chǎn)品型號：HY-EDI-4T

   外形尺寸：1300mm*800mm*1500mm

   適用水壓：0.3-0.6Mpa

   工作溫度：4-40℃

   工作電源：380V/50Hz

    進水要求：電導率≤5us/cm.

五、使用領(lǐng)域：

    1.反滲透設(shè)備制取的純凈水廣泛應(yīng)用于食品加工廠、飲料廠、醫(yī)療器械制造廠；電子工業(yè)生產(chǎn)，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路、芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水；

    2.制取熱力、火力發(fā)電鍋爐，廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水；

    3.制取飲料（含酒類）行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水；

    4.海水、苦咸水制取生活用水及飲用水；

    5.制取電鍍工藝用去離子水；電池（蓄電池）生產(chǎn)工藝的純水；汽車、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗沌水；鍍膜玻璃用純水；紡織印染工藝所需的除硬除鹽水；

    6.化工業(yè)：玻璃水、車用尿素水、洗發(fā)水、洗衣液、洗潔精、反應(yīng)冷卻水；化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程用水；

    7.賓館、樓宇、社區(qū)機場房產(chǎn)物業(yè)的供水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)及游泳池水質(zhì)凈化；

    8.線路板、電鍍、電子工業(yè)廢水處理及回用；

    9.生活、制革、印染、造紙工業(yè)廢水及垃圾滲瀝液的處理。