等離子電漿拋光機(jī)

等離子電漿拋光機(jī)

配置：全自動(dòng)等離子納米拋光生產(chǎn)線 壹臺(tái)

等離子發(fā)生器電源 壹臺(tái)

超聲波清洗發(fā)生器 壹臺(tái)

技術(shù)參數(shù)：

毛刺處理范圍 ≤R0.１mm

邊角菱線 ≤R0.01mm

尺寸影響 ≤0.001mm

產(chǎn)量 產(chǎn)品尺寸：

100mm x 1000mm,

約300000~50000件/10小時(shí)

與傳統(tǒng)拋光工藝相比，環(huán)保等離子電漿拋光工藝的優(yōu)勢(shì)主要表現(xiàn)在：

１、為客戶減輕環(huán)保壓力。本公司所使用的拋光溶液非常環(huán)保，其廢液可以直接排放而不會(huì)造成污染，也可以稍作處理回收利用。　　　

２、降低客戶生產(chǎn)成本。半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保等離子電漿拋光設(shè)備采用自動(dòng)化控制，操作簡單，維護(hù)方便，減少作業(yè)人員、降低人工成本。同時(shí)也可為客戶節(jié)省因人工拋光、電解拋光、化學(xué)拋光等傳統(tǒng)拋光方法而造成的許多材料消耗。

３、為客戶提高生產(chǎn)效率。半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保等離子電漿拋光設(shè)備通過專用藥劑可在十幾秒到兩分鐘內(nèi)達(dá)到電鍍鏡面效果，大大提高了生產(chǎn)效率。

４、拋光效果好，提升客戶產(chǎn)品品質(zhì)。利用半自動(dòng)、全自動(dòng)環(huán)保等離子拋光設(shè)備拋光出的產(chǎn)品具有高品質(zhì)，而且可以對(duì)一些人工不可能拋光的精密工件加以拋光。其精度控制極高,尺寸影響小,通?？煽刂圃?.1微米/分鐘,拋光均勻，使整個(gè)工件表面和死角部位都可以達(dá)到一致的鏡面效果。增強(qiáng)拋光面的抗腐蝕性能，拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜，使其保持耐久光亮，有效防止氧化。

拋光后產(chǎn)品的特性主要表現(xiàn)在：粗糙度降低，光潔度、精密度提高、堅(jiān)硬耐用、缺口敏感性降低、變得光滑整齊、摩擦系數(shù)下降、磨損減少。

1.拋光技術(shù)簡介        拋光技術(shù)是表面處理的關(guān)鍵技術(shù)之一，拋光無論是在傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)還是在電子數(shù)碼產(chǎn)業(yè)中都是不可或缺的生產(chǎn)步驟。拋光是對(duì)工件表面精加工的過程，經(jīng)過拋光工序，工件表面粗糙度降低一般說來伴隨著光澤度的提高，工件拋光后其機(jī)械、物理及化學(xué)性能都有不同程度的改善。例如，疲勞強(qiáng)度一般有所提高，缺口敏感性降低，摩擦系數(shù)下降，磨損減少。本產(chǎn)品采用的拋光技術(shù)是一種完全不同傳統(tǒng)方法的新型拋光技術(shù)，稱之為液態(tài)電漿拋光技術(shù)。此拋光技術(shù)是根據(jù)電化學(xué)原理與化學(xué)反應(yīng)原理而研發(fā)設(shè)計(jì)的。是利用電解質(zhì)成分、電解質(zhì)水溶液濃度與溫度、電壓及電流密度對(duì)工件表面粗糙度、光澤度、反射率等表面特性的關(guān)聯(lián)，而研發(fā)出最適合操作的新型拋光技術(shù)。

2.適用行業(yè):        手機(jī)制造、電器、電子數(shù)碼產(chǎn)品、汽車產(chǎn)品模具行業(yè)、電腦產(chǎn)品、五金制品等行業(yè)。

3.適用材質(zhì):        不銹鋼、鎂鋁合金、鋁材、鈦材等導(dǎo)電材質(zhì)。

4.拋光后產(chǎn)品特性:        經(jīng)過拋光工序，工件表面粗糙度降低一般說來伴隨著光澤度的提高，工件拋光后其機(jī)械、物理及化學(xué)性能都有不同程度的改善。 5.拋光后產(chǎn)品特點(diǎn):        光潔度提高、精密度提高、堅(jiān)硬耐用、缺口敏感性降低、摩擦系數(shù)下降、磨損減少等。

6.低污染液態(tài)電漿拋光技術(shù)拋光原理        低污染液態(tài)電漿拋光技術(shù)是將待拋光工件浸入加熱的電解質(zhì)水溶液中，并對(duì)其施加正極性電壓，該電解液無公害且廉價(jià)濃度(2-12%)，所施加的電壓為200-400V 。工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導(dǎo)電材料。在適當(dāng)?shù)墓ぷ鳁l件下，工件表面會(huì)出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層，該氣體層會(huì)把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開，從而導(dǎo)致工件表面與電解溶液蒸氣之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的等離子體化學(xué)反映和電化學(xué)反應(yīng)，使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化，同時(shí)又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時(shí)出現(xiàn)拋光效果，使工件表面光澤度上升及反射率提高。當(dāng)氧化層最薄且又足以抵御侵蝕作用時(shí)，其反射率出現(xiàn)最高值。微觀不平處的氧化層最薄，因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位。此外，被拋光表面被施加足夠高的電壓后，它和氣體層、蒸氣、電解液之間會(huì)產(chǎn)生很高的電場強(qiáng)度，這種強(qiáng)度也在微觀不平處得到強(qiáng)化。這些作用的綜合效果，使表面微觀凸起部位被削平，達(dá)到拋光效果。此種拋光方法基于等離子體的鏡射效果，和拋光作用的原理，所以此拋光技術(shù)不但可適用于具有蝕刻紋路的一般的工件，還可適用于腐蝕紋路特別復(fù)雜和精細(xì)的工件。